國家智慧財產權局資訊顯示，美光科技公司申請一項名為“用於字線結構形成的雕刻溝槽”的專利，公開號CN121619859A，申請日期為2025年8月雕刻。
專利摘要顯示，本公開涉及一種用於字線結構形成的雕刻溝槽雕刻。本文中所描述的實施方案涉及各種結構、整合組合件和儲存器裝置。在一些實施方案中，一種整合組合件包含具有上部部分和下部部分的有源區域區，其中所述下部部分的寬度小於所述上部部分的寬度。所述整合組合件進一步包含水平鄰近於所述下部部分的字線結構。
宣告：市場有風險，投資需謹慎雕刻。本文為AI基於第三方資料生成，僅供參考，不構成個人投資建議。
來源雕刻：市場資訊
